光刻技术

微细加工工艺方法主要有：（），光刻加工，体刻蚀加工技术，面刻蚀加工技术，LIGA技术，（）和（）。 何为分辨率、对比度、IC制造对光刻技术有何要求？ 中国大学MOOC: 下面哪些选项可以提高光刻技术的分辨率？ 光刻中影响甩胶后光刻胶膜厚的因素有（）、（）、（）、（）。 解释光刻胶显影。光刻胶显影的目的是什么？ 试分析4次光刻中第2次光刻的工艺方案。 试分析4次光刻中第2次光刻的工艺方案 什么叫光刻？光刻工艺质量的基本要求是什么？ （名词解析） 光刻 数字投影微光刻技术的打印方式是由点到线再到面，层层累加 浸没式光刻机相对于传统的光刻机有何不同。 什么是纳米光刻 什么是纳米光刻 最早应用在半导体光刻工艺中的光刻胶是哪种胶？ 述5次光刻中第5次像素电极光刻形成的ITO的作用。 述5次光刻中第5次像素电极光刻形成的ITO的作用 解释正性光刻和负性光刻的区别？为什么正胶是普遍使用的光刻胶？最常用的正胶是指哪些胶？ 简述7次光刻的第二次光刻中O2灰化的作用 纳米光刻包括哪些内容？ 例举出两种光刻胶显影方法。例举出7种光刻胶显影参数。