述5次光刻中第5次像素电极光刻形成的ITO的作用

试根据5次光刻的工艺流程绘制等效电路。 简述4次光刻的工艺流程。 简述4次光刻的工艺流程 简述采用5次光刻的多晶硅薄膜晶体管的工艺流程的难点与特点。 简述采用5次光刻的多晶硅薄膜晶体管的工艺流程的难点与特点 最早应用在半导体光刻工艺中的光刻胶是哪种胶？ 光刻中影响甩胶后光刻胶膜厚的因素有（）、（）、（）、（）。 光刻技术 解释光刻胶显影。光刻胶显影的目的是什么？ 什么叫光刻？光刻工艺质量的基本要求是什么？ 数字投影微光刻技术相较于传统平面光刻的优势为 （名词解析） 光刻 浸没式光刻机相对于传统的光刻机有何不同。 什么是纳米光刻 什么是纳米光刻 随着集成电路光刻技术的不断发展，芯片的光刻线宽越来越_____。 解释正性光刻和负性光刻的区别？为什么正胶是普遍使用的光刻胶？最常用的正胶是指哪些胶？ 纳米光刻包括哪些内容？ 例举出两种光刻胶显影方法。例举出7种光刻胶显影参数。 简述采用9次光刻的多晶硅薄膜晶体管的工艺流程技术关键。