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自身上釉指的是将修复体烧结到与原来的烧结温度相同或稍高的过程。达到上釉的温度之后,应维持()时间,直到瓷的外表面形成理想的光泽度为止
单选题
自身上釉指的是将修复体烧结到与原来的烧结温度相同或稍高的过程。达到上釉的温度之后,应维持()时间,直到瓷的外表面形成理想的光泽度为止
A. 20~30秒
B. 30~60秒
C. 1~2分钟
D. 2~4分钟
E. 5~7分钟
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烧结温度是指烧结过程中料层达到的温度()
低温烧结是指烧结温度控制在()℃范围内
烧结温度是指烧结料层中某一点的()。
烧结温度是指烧结料层中某一点达到的()。
在真空炉内烧结而成PFM修复体的是
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PFM修复体是由下列哪一项在真空炉内烧结而成的修复体
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关于自身上釉的说法中,正确的是
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铺底料是将烧结料与炉篦条隔开,从而防止烧结时炉篦与()接触。
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