对于浓度覆盖很宽的杂质原子，可以采用（）方法引入到硅片中。

对于幻灯片中文本框内的文字，设置项目符号可以采用()   引入无线直放站与光纤直放站后，相对于原覆盖情况基站覆盖范围会缩小。 通过使用烙制好的金属连线将晶体管直接嵌入到硅层或硅片中，集成电路就诞生了，这是由（）发明的。 要除去液体中不溶解的固体杂质，可以采用的方法（）。 室温下，本征锗的电阻率为47Ω·cm，试求本征载流子浓度。若掺入锑杂质，使每106个锗原子中有一个杂质原子，计算室温下电子浓度和空穴浓度。设杂质全部电离。锗原子的浓度为4.4×1022cm-3，试求该掺杂锗材料的电阻率。设μn=3600cm2/V·s， 且认为不随掺杂而变化。ni=2.5×1013cm3。 引入线子系统覆盖范围应符合下列要求：采用铜线对电缆做引入线的ONU+DSLAM的覆盖距离不宜大于（） 对于拍摄到的变形图像时，可以采用Photoshop中下列哪程方法修复（） 辐射所覆盖的波长范围很宽，从Gamma射线，一直到（） 化学清洗中是利用硝酸的强（）和强（）将吸附在硅片表面的杂质除去。 中国药典采用原子吸收分光光度法检查的特殊杂质（） 下面哪个不是硅片的清洗方法（） 有的药物在生产和贮存过程中易引入有色杂质，中国药典采用（） 结构中引入卤素原子（） 常用于除去饮片中杂质的器具是 对于传输信道所引入的码间干扰，一种基本的解决方法是采用（） 稳定静态工作点的方法除了引入直流负反馈，还可以采用温度补偿的方法。 扩散电流是由半导体的杂质浓度引起的，杂质浓度大，扩散电流大;杂质浓度小，扩散电流小（） 中国大学MOOC: 离子注入方法和扩散方法均能精确控制杂质的浓度。 根据药物和杂质体积大小不同，除去杂质的方法，常采用（） 利用药物和杂质的质量不同，除去杂质的方法，常采用（）。