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化学清洗中是利用硝酸的强()和强()将吸附在硅片表面的杂质除去。
主观题
化学清洗中是利用硝酸的强()和强()将吸附在硅片表面的杂质除去。
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清洗指利用清水清除原料夹带的杂质和()等表面的污物所采取的操作过程。
以下选项中不是硅片清洗的作用的是?()
表面的物理吸附和化学吸附
沉淀表面吸附杂质,其吸附量与下列哪些因素无关()
物理吸附的吸附力比化学吸附力强()
固体表面的吸附中,化学吸附:()
清洗是指()零部件表面的油脂、污垢和其他杂质
吸附态是固体表面进行物理吸附时的化学状态()
煤泥浮选是利用煤和矿物杂质的表面物理化学性质的差异实现分选过程的()
洗涤沉淀是为了洗去表面吸附的杂质及混杂在沉淀中的母液()
化学清洗法是利用化学药品的()和()作用,清除零件表面的油污、漆皮、积炭和铁锈等污物的一种方法。
下面哪个不是硅片的清洗方法()
洗涤沉淀的目的是为了除去混杂在沉淀中的母液和吸附在沉淀表面上的杂质。
氧化物表面上的化学吸附,根据化学吸附状态可分为三种吸附类型:()、()、()。
氧化物表面上的化学吸附,根据化学吸附状态可分为三种吸附类型()、()、()
例出典型的硅片湿法清洗顺序。
例出典型的硅片湿法清洗顺序
表面吸附是一种物理吸附,其吸附过程不发生化学变化()
亚硝酸钠化学清洗的目的是为了()。
亚硝酸钠化学清洗的目的是什么?
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