在深紫外曝光中，需要使用（）光刻胶。

解释正性光刻和负性光刻的区别？为什么正胶是普遍使用的光刻胶？最常用的正胶是指哪些胶？ 光刻胶的光学稳定通过（）来完成的。 通过负光刻胶定义的图形与所需要制备的图形相反。 利用正光刻胶曝光、显影、蚀刻的过程中，掩膜版上透光图案对应的基底部位将被蚀刻掉（） 利用正光刻胶曝光、显影、蚀刻的过程中，掩膜版上透光图案对应的基底部位将被蚀刻掉。 在硅片制造中光刻胶的两种目的是什么？ 有关光刻胶的显影下列说法错误的是（）。 光刻胶主要由（）等不同材料混合而成的。 负性和正性光刻胶有什么区别和特点？ 解释光刻胶选择比。要求的比例是高还是低？ 光刻中影响甩胶后光刻胶膜厚的因素有（）、（）、（）、（）。 光致抗蚀剂在曝光前对某些溶剂是可溶的，曝光后硬化成不可溶解的物质，这一类抗蚀剂称为负性光致抗蚀剂，由此组成的光刻胶称为负性胶（） 例举并描述光刻中使用的两种曝光光源。 需要使用光谱分析仪的测试项目有（）。 需要使用光谱分析仪的测试项目有()。 水泥胶砂强度检验需要使用的设备有（） 其他冰箱做不到深紫外光去农残，我们做到需要解决哪些问题（） 以下哪种设备在水泥胶砂振实成型过程中需要使用（）。 以下哪种设备在水泥胶砂振实成型过程中需要使用（） 下哪种设备在水泥胶砂振实成型过程中需要使用（）