一般在蚀刻操作中蚀刻和再生是同时进行的。

不适宜在碱性氯化铜蚀刻液中蚀刻的抗蚀层是（）。 碱性蚀刻中蚀刻不足可能是喷淋压力不足造成，其解决方式为（）。 在碱性氯化铜蚀刻中，造成蚀刻不足的原因可能有（）。 酸性氯化铜蚀刻液用于蚀刻单面板和多层板的内层。 蚀刻液中只需要含有氯化铜即可达到理想蚀刻要求。 碱性氯化铜蚀刻液是目前应用最广的图形蚀刻溶液。 酸性氯化铜蚀刻液的再生的最好的方法是双氧水再生法。 酸性氯化铜蚀刻液的特点是蚀刻速率恒定，容易控制。 全蚀刻体系是指（） 全蚀刻体系是指 简述蚀刻中的注意事项。 碱性氯化铜蚀刻液中氯化铵浓度偏低时，蚀刻速率慢，溶液稳定性差。 侧蚀程度的大小与蚀刻液的种类、组成和所使用的蚀刻工艺及设备有关。 蚀刻溶液中的氧化剂为（）。 酸性氯化铜蚀刻若操作体系的温度太高，会使（）。 激光蚀刻技术可以分为（） 酸蚀刻的作用包括（） 蚀刻液的主要成分是（）。 在酸性氯化铜蚀刻液体系的再生方法中，由于氯气是强氧化剂，直接通氯气是再生的最好方法。是因为（）。 干法蚀刻通常指利用辉光放电方式，产生等离子体来进行图案转移的蚀刻技术。其中等离子体含有（）。