光刻加工曝光中,由光源发出的光束经掩膜在光致抗蚀剂上成像,称为( )曝光。

例举并描述光刻中使用的两种曝光光源。 ()是由光源发出经多次散射而无法确定其方向的光。 由一发光点发出的光束称为发散光束。 印刷电路板制造用光致抗蚀干膜 光刻工艺中的曝光和显影工序必须在_（）__光室中进行。 未来电子化学品的发展重点在于新型光致抗蚀剂、新型电子塑封材料、彩色等离子体平板显示屏（PDP）专用光刻系列浆料和液态感光成像阻焊剂等。 （）是由一发光点发出的光束。 （报关编码） 印刷电路板制造用光致抗蚀干膜 裂隙灯光源发出的光线通过聚光镜由裂隙选定光束的形态。 裂隙灯光源发出的光线通过聚光镜由裂隙选定光束的形态（） 光刻工艺一般都要经过涂胶、（）、曝光、（）、坚膜、腐蚀、（）等步骤。 光刻工艺是利用感光胶感光后抗腐蚀的特性在半导体晶片表面的掩膜层上的工艺（） 中国大学MOOC: 光刻工艺中的分辨率是指能精确转移到晶片表面抗蚀剂上图案的最小尺寸。 由一发光点发出的（）称为发散光束。 光学准直仪中由光源发出的光经分划板、半透反射镜和物镜后射到上（） 光源发出光经单色器分光后经反射镜分解为强度相等的两束光属于（） 电信号加载到光源的发射光束上变成光信号即是（） 721型分光光度计的光路是从光源经（）发出一束平行光 在深紫外曝光中，需要使用（）光刻胶。 微孔膜包衣片衣膜上的致孔剂是