多选题

制备煤岩分析用的煤光片时,在细抛光煤光片时有以下方法()

A. 煤光片在抛光盘的90°位线附近作左右摆动,同时不断地旋转光片,以使煤砖表面抛光均匀,并无方向性划道。
B. 煤光片在抛光盘的90°位线附近作左右摆动,以使煤砖表面抛光均匀。
C. 煤光片与抛光盘作反向旋转(煤砖的转速为80~100r/min);
D. 煤光片与抛光盘作反向旋转(煤砖的转速为20~30r/min)

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