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PFM修复体初期预氧化过程中除气应在比次烧结温度高()的真空状态烧结。
单选题
PFM修复体初期预氧化过程中除气应在比次烧结温度高()的真空状态烧结。
A. 10℃
B. 20℃
C. 30℃
D. 40℃
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烧结过程中,烧结带的温度可达()℃。
若采用自身上釉,烧结温度比体瓷的烧结温度
烧结温度是指烧结过程中料层达到的温度。()
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烧结法生产氧化铝过程中,生料浆的配料指标中钙比是下列哪项?()
在烧结过程中,磁铁精矿在氧化过程中会()。
烧结过程中,气相中水蒸汽开始冷凝的温度称为露点,露点温度一般为()。
造成PFM修复体崩瓷现象的原因中不包括
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PFM烧结过程,下列说法正确的有()
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烧结过程中温度最高的带是()。
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烧结过程中温度最高的区域是()
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在烧结过程中总体是氧化气氛,局部是()。
在烧结过程中,主要是氧化气氛,局部是()。
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烧结过程中水汽开始冷凝的温度称为()。
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