多选题

在酸性氯化铜蚀刻过程出现抗蚀剂破坏的原因可能有()。

A. 溶液温度过高
B. 溶液被污染
C. 显影有余胶
D. 传递速度过快

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酸性氯化铜蚀刻液的再生的最好的方法是双氧水再生法。 碱性氯化铜蚀刻液是目前应用最广的图形蚀刻溶液。 蚀刻液中只需要含有氯化铜即可达到理想蚀刻要求。 碱性氯化铜蚀刻液中氯化铵浓度偏低时,蚀刻速率慢,溶液稳定性差。 在用酸碱性氯化铜蚀刻若形成氯化亚铜沉淀,有何不利因素。 在酸性氯化铜蚀刻液体系的再生方法中,由于氯气是强氧化剂,直接通氯气是再生的最好方法。是因为()。 在酸碱性氯化铜蚀刻液中都是含铜量越多越好。 在蚀刻过程中,添加某些添加剂可以降低侧蚀程度。 乙烯氧氯化法生产氯乙烯,氧氯化反应的催化剂活性组分是氯化铜。 乙烯氧氯化法生产氯乙烯,氧氯化反应的催化剂活性组分是氯化铜() 在印制电路板的蚀刻过程中为何要减少侧蚀。如何减少侧蚀。 所有金属抗蚀层都可适用碱性蚀刻液,大部分金属不可用酸性蚀刻液,金除外。 以碳棒为电极电解氯化铜水溶液时,阴极反应有() 蚀刻过程中为使加速蚀刻反应正向进行的措施有()。 以石墨为电极,电解氯化铜水溶液,阴极的产物是铜。 以石墨为电极,电解氯化铜水溶液,阴极的产物是铜() 直接抗人球蛋白试验阳性原因可能有 产后出现尿潴留的原因可能有 市场出现失灵现象的原因可能有(  )。 产品出现掉包的原因可能有()
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