配位滴定中，在使用掩蔽剂消除共存离子的干扰时，下列注意事项中说法不正确的是（）
A. 掩蔽剂不与待测离子配合，或与待测离子形成配合物的稳定常数远小于待测离子与EDTA配合物的稳定性
B. 干扰离子和掩蔽剂所形成的配合物的稳定性应比待测离子和EDTA形成的配合物更稳定
C. 在滴定待测离子所控制的酸度范围内应以离子形式存在，应具有较强的掩蔽能力
D. 掩蔽剂与干扰离子所形成的配合物应是无色或浅色的，不影响终点的判断
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用指示剂（In），以EDTA（Y）滴定金属离子M时常加入掩蔽剂（X）消除某干扰离子（N）的影响。不符合掩蔽剂加入条件的是（）。
氧化还原掩蔽剂是配位滴定中应用最多的掩蔽剂。]（）
提高配位滴定选择性的方法有和利用掩蔽剂消除干忧
在配位滴定中，对配位掩蔽剂的要求有（）
EDTA配位滴定法，消除其它金属离子干扰常用的方法有（）
EDTA配位滴定法，消除其它金属离子干扰常用的方法有（）。
配位滴定中使用的指示剂是（）
配位滴定中，掩蔽剂与干扰离子形成配合物的稳定性一定大于EDTA与该离子所形成配合物的稳定性。
（）滴定中，消除共存离子干扰的通用方法是控制溶液的酸度。
EDTA滴定中，消除共存离子干扰的通用方法是控制溶液的酸度。
配位滴定法测定金属离子含量时，应注意酸度、干扰离子的影响（）
以下有关配位滴定掩蔽剂叙述正确者为（）
在 EDTA 配位滴定中，下列有关掩蔽剂的叙述，错误的是_
2148EDTA滴定中，消除共存离子干扰的通用方法是控制溶液的酸度（）
在EDTA配位滴定中，下列有关掩蔽剂的叙述中正确的是（）。
在EDTA配位滴定中，下列有关掩蔽剂的叙述哪些是正确的（）。
在EDTA配位滴定中，下列有关掩蔽剂的叙述哪些是错误的（）。
配位掩蔽法使用的掩蔽剂应具备哪些条件？
为消除干扰离子的影响，可采用掩蔽法。掩蔽法分为（）。
配位滴定中常用的消除干扰的方法包括（）
