在我国，布图设计受保护的形式条件是（）

关于布图设计权产生的形式条件，通常包括（）。 在我国，布图设计专有权经国务院知识产权行政部门登记产生，未经登记的布图设计不受《集成电路布图设计保护条例》保护。 关于布图设计权产生的形式条件，通常不包括（） 我国保护集成电路布图设计的法律法规是（）。 我国布图设计专有权的保护期为（） 关于布图设计权产生的形式条件，通常包括____。（2分） 布图设计获准登记后，如果主管部门发现该布图设计的保护延及了布图设计的处理过程，有关该布图设计权的保护延及了布图设计的处理过程，下列说法正确的是（） 受保护的布图设计由布图设计权利人或者经其许可投放市场后，他人再次商业利用的，可以不经布图设计权利人许可，并不向其支付报酬。( ) 无论是否登记或者投入商业利用，布图设计自创作完成之日起15年后，不再受《集成电路布图设计条例》保护。( ) 关于受保护的集成电路布图设计主体和客体的说法，正确的有（） (12年真题)根据我国《集成电路布图设计保护条例》的规定，集成电路布图设计专有权包括    (    ) 依据我国《集成电路布图设计保护条例》，下列选项表述错误的是（） 刘某欲申请集成电路布图设计保护，若发生下列（）情形，则该布图设计不能受到集成电路布图设计专有权保护 黄某欲申请集成电路布图设计保护，若发生下列（）情形，则该布图设计能受到集成电路布图设计专有权保护 我国规定集成电路布图设计权的保护期限最长为（） 我国，参加的涉及保护集成电路布图设计的国际条约有（） 下列关于受保护的集成电路布图设计主体和客体的说法，错误的有（） 在我国，布图设计专有权的保护期为（）年，自布图设计登记申请之日或者在世界任何地方首次投入商业利用之日起计算，以较前日期为准。但是，无论是否登记或者投入商业利用，布图设计自创作完成之日起（）年后，不再受保护。 在我国，布图设计权的内容是（） 在我国，集成电路布图设计专有权的保护期为（）