如果光刻胶在曝光前可溶于某种溶液而经过曝光后不可溶，则这种光刻胶为正胶。

利用正光刻胶曝光、显影、蚀刻的过程中，掩膜版上透光图案对应的基底部位将被蚀刻掉（） 例举出两种光刻胶显影方法。例举出7种光刻胶显影参数。 金属铜可溶于硫酸溶液中（） 可溶于碳酸钠水溶液的是（） 可溶于碳酸钠水溶液的有（） 可溶于碳酸钠水溶液的是（　　）。 可溶于碳酸钠水溶液的是（） 可溶于碳酸钠水溶液的是（） 既可溶于水，又可溶于氯仿的是（） 下列物质中，可溶于水形成溶液的是（）。 可溶于碳酸氢钠溶液的是()。 除（）外，均可溶于碳酸钠水溶液 纯碳酸氢钠可溶于水，其水溶液因水解而呈（） 最早应用在半导体光刻工艺中的光刻胶是哪种胶？ [中药化学]既可溶于水，又可溶于氯仿的是 既可溶于水，又可溶于三氯甲烷的是()。 光刻胶的光学稳定通过（）来完成的。 既可溶于酸水也可溶于碱水的生物碱是（ ）。 [中药化学]除()外，均可溶于碳酸钠水溶液。 香豆素可溶于热稀碱溶液中是由于（）。