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2017年2月,凌动公司创作完成某集成电路布图设计。2018年3月,凌动公司将此集成电路布图设计首次投入商业利用。2018年4月,凌动公司向有关部门提出该集成电路布图设计的保护申请,并于2018年9月24日获取此集成电路布图设计的《登记证书》。2018年12月,凌动公司将其拥有的集成电路布图设计专有权依法转让给麦穗公司。但于2019年1月,麦穗公司发现东海新华公司公开销售的型号为WS2828的LE
多选题
2017年2月,凌动公司创作完成某集成电路布图设计。2018年3月,凌动公司将此集成电路布图设计首次投入商业利用。2018年4月,凌动公司向有关部门提出该集成电路布图设计的保护申请,并于2018年9月24日获取此集成电路布图设计的《登记证书》。2018年12月,凌动公司将其拥有的集成电路布图设计专有权依法转让给麦穗公司。但于2019年1月,麦穗公司发现东海新华公司公开销售的型号为WS2828的LE
A. 构成侵权,东海新华公司的行为属于未经许可复制受保护的集成电路布图设计中具有独创性部分的行为
B. 构成侵权,东海新华公司的行为不属于善意免责
C. 不构成侵权,东海新华公司的行为属于反向工程
D. 不构成侵权,因为麦穗公司已经权利穷竭
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2018年3月24日,都灵公司完成集成电路布图设计创作,并于2018年7月5日首次投入商业利用。后于次年2月21日申请集成电路布图设计保护,并于2019年3月26日获准登记。2019年11月8日,都灵公司发现新凡公司生产、销售的XF258芯片中所含的集成电路布图设计与其于2019年3月26日获准登记的集成电路布图设计相同,并诉至人民法院。在本案例中,都灵公司受保护的集成电路布图设计专有权的保护客体是( )。
X公司和Y公司合作创作集成电路布图设计,若创作完成后,其专有权()
甲公司和乙公司合作创作集成电路布图设计,若创作完成后,其专有权()
2018年3月24日,都灵公司完成集成电路布图设计创作,并于2018年7月5日首次投入商业利用。后于次年2月21日申请集成电路布图设计保护,并于2019年3月26日获准登记。2019年11月8日,都灵公司发现新凡公司生产、销售的XF258芯片中所含的集成电路布图设计与其于2019年3月26日获准登记的集成电路布图设计相同,并诉至人民法院。若新凡公司的行为属于( ),可以不经布图设计权利人许可,不向其支付报酬。
2018年3月24日,都灵公司完成集成电路布图设计创作,并于2018年7月5日首次投入商业利用。后于次年2月21日申请集成电路布图设计保护,并于2019年3月26日获准登记。<br/>2019年11月8日,都灵公司发现新凡公司生产、销售的XF258芯片中所含的集成电路布图设计与其于2019年3月26日获准登记的集成电路布图设计相同,并诉至人民法院。<br/>若新凡公司的行为属于(),可以不经布图设
2018年3月24日,都灵公司完成集成电路布图设计创作,并于2018年7月5日首次投入商业利用。后于次年2月21日申请集成电路布图设计保护,并于2019年3月26日获准登记。2019年11月8日,都灵公司发现新凡公司生产、销售的XF258芯片中所含的集成电路布图设计与其于2019年3月26日获准登记的集成电路布图设计相同,并诉至人民法院。在本案例中,都灵公司自2019年3月26日获准登记后,其获得的集成电路布图设计专有权的内容为( )。
2018年3月24日,都灵公司完成集成电路布图设计创作,并于2018年7月5日首次投入商业利用。后于次年2月21日申请集成电路布图设计保护,并于2019年3月26日获准登记。<br/>2019年11月8日,都灵公司发现新凡公司生产、销售的XF258芯片中所含的集成电路布图设计与其于2019年3月26日获准登记的集成电路布图设计相同,并诉至人民法院。<br/>若都灵公司于2018年7月5日首次投入商
2018年3月24日,都灵公司完成集成电路布图设计创作,并于2018年7月5日首次投入商业利用。后于次年2月21日申请集成电路布图设计保护,并于2019年3月26日获准登记。<br/>2019年11月8日,都灵公司发现新凡公司生产、销售的XF258芯片中所含的集成电路布图设计与其于2019年3月26日获准登记的集成电路布图设计相同,并诉至人民法院。<br/>在本案例中,都灵公司自2019年3月26
2018年2月,彭元公司创作完成某集成电路布图设计。2019年3月,彭元公司将此集成电路布图设计首次投入商业利用。2019年4月,彭元公司向有关部门提出该集成电路布图设计的保护申请,并于2019年9月24日获取此集成电路布图设计的《登记证书》。2019年12月,彭元公司将其拥有的集成电路布图设计专有权依法转让给量田公司。但于2020年1月,量田公司发现奇露公司公开销售的型号为DS8526的LED驱动芯片的集成电路与其已获转让的布图设计所包含的功能模块相同,且所能实现的功能也相同。于是,量田公司将奇露公司诉至人民法院,请求奇露公司赔偿50万元人民币。在庭审过程中,奇露公司辩解称,他们是从公开渠道取得的受保护的集成电路布图设计,通过技术手段对此集成电路布图设计进行评价、分析,从而获得该产品的有关技术信息,并在此基础上创作出具有独创性的集成电路布图设计,但未提供任何证据予以证明。2019年12月,彭元公司将其集成电路布图设计专有权依法转让给量田公司,当事人应向( )申请办理著录项目变更手续。
2018年2月,彭元公司创作完成某集成电路布图设计。2019年3月,彭元公司将此集成电路布图设计首次投入商业利用。2019年4月,彭元公司向有关部门提出该集成电路布图设计的保护申请,并于2019年9月24日获取此集成电路布图设计的《登记证书》。2019年12月,彭元公司将其拥有的集成电路布图设计专有权依法转让给量田公司。但于2020年1月,量田公司发现奇露公司公开销售的型号为DS8526的LED驱动芯片的集成电路与其已获转让的布图设计所包含的功能模块相同,且所能实现的功能也相同。于是,量田公司将奇露公司诉至人民法院,请求奇露公司赔偿50万元人民币。在庭审过程中,奇露公司辩解称,他们是从公开渠道取得的受保护的集成电路布图设计,通过技术手段对此集成电路布图设计进行评价、分析,从而获得该产品的有关技术信息,并在此基础上创作出具有独创性的集成电路布图设计,但未提供任何证据予以证明。2019年4月,彭元公司向有关部门提出集成电路布图设计的保护申请,下列项中属于登记申请应提交的材料的是( )。
2018年3月24日,都灵公司完成集成电路布图设计创作,并于2018年7月5日首次投入商业利用。后于次年2月21日申请集成电路布图设计保护,并于2019年3月26日获准登记。2019年11月8日,都灵公司发现新凡公司生产、销售的XF258芯片中所含的集成电路布图设计与其于2019年3月26日获准登记的集成电路布图设计相同,并诉至人民法院。若都灵公司于2018年7月5日首次投入商业利用后,迟迟不予申请集成电路布图设计保护,直至2021年7月5日方才向国家知识产权局提出申请,关于其是否符合被予以受理、审查条件的说法,正确的是( )。
2018年2月,彭元公司创作完成某集成电路布图设计。2019年3月,彭元公司将此集成电路布图设计首次投入商业利用。2019年4月,彭元公司向有关部门提出该集成电路布图设计的保护申请,并于2019年9月24日获取此集成电路布图设计的《登记证书》。2019年12月,彭元公司将其拥有的集成电路布图设计专有权依法转让给量田公司。但于2020年1月,量田公司发现奇露公司公开销售的型号为DS8526的LED驱动芯片的集成电路与其已获转让的布图设计所包含的功能模块相同,且所能实现的功能也相同。于是,量田公司将奇露公司诉至人民法院,请求奇露公司赔偿50万元人民币。在庭审过程中,奇露公司辩解称,他们是从公开渠道取得的受保护的集成电路布图设计,通过技术手段对此集成电路布图设计进行评价、分析,从而获得该产品的有关技术信息,并在此基础上创作出具有独创性的集成电路布图设计,但未提供任何证据予以证明。关于量田公司起诉奇露公司的侵权纠纷案,下列说法正确的是( )。
2018年2月,彭元公司创作完成某集成电路布图设计。2019年3月,彭元公司将此集成电路布图设计首次投入商业利用。2019年4月,彭元公司向有关部门提出该集成电路布图设计的保护申请,并于2019年9月24日获取此集成电路布图设计的《登记证书》。2019年12月,彭元公司将其拥有的集成电路布图设计专有权依法转让给量田公司。但于2020年1月,量田公司发现奇露公司公开销售的型号为DS8526的LED驱动芯片的集成电路与其已获转让的布图设计所包含的功能模块相同,且所能实现的功能也相同。于是,量田公司将奇露公司诉至人民法院,请求奇露公司赔偿50万元人民币。在庭审过程中,奇露公司辩解称,他们是从公开渠道取得的受保护的集成电路布图设计,通过技术手段对此集成电路布图设计进行评价、分析,从而获得该产品的有关技术信息,并在此基础上创作出具有独创性的集成电路布图设计,但未提供任何证据予以证明。关于本案例中奇露公司是否构成侵权,下列说法正确的是( )。
王某将其集成电路布图设计申请登记,关于集成电路布图设计的申请程序,以下选项正确的是()。
王某将其集成电路布图设计申请登记,关于集成电路布图设计的申请程序,以下选项正确的是()
王某将其集成电路布图设计申请登记,关于集成电路布图设计的申请程序,以下选项正确的是()。
王某将其集成电路布图设计申请登记,关于集成电路布图设计的申请程序,以下选项正确的是()。
刘某欲申请集成电路布图设计保护,若发生下列()情形,则该布图设计不能受到集成电路布图设计专有权保护
黄某欲申请集成电路布图设计保护,若发生下列()情形,则该布图设计能受到集成电路布图设计专有权保护
无论是否登记或者投入商业利用,布图设计自创作完成之日起15年后,不再受《集成电路布图设计条例》保护。( )
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