单选题

制作全口义齿基托蜡型时,上蜡的步骤正确的是

A. 烘→烫→雕→压→喷
B. 烘→烫→压→雕→喷
C. 烘→雕→烫→压→喷
D. 烘→压→雕→烫→喷
E. 烘→压→烫→雕→喷

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全口义齿基托蜡型应该缓冲的区域有 全口义齿基托蜡型应该尽量伸展的区域有 全口义齿基托蜡型边缘伸展要求说法错误的是()。 下列关于全口义齿蜡型基托的范围,哪项是错误的()。 全口义齿基托蜡型后缘在磨牙后垫处厚度为 关于可摘局部义齿基托蜡型的制作要求,下列()不正确。 有关全口义齿基托蜡型腭皱的描述,下列哪一项不正确 患者,男性,60岁,全口义齿修复2d后复诊,主诉义齿松,易脱落。检查义齿基托与黏膜之间的接触关系时应了解。若全口义齿蜡型试戴时固位力差,下列哪一项与基托蜡型无关。() 患者,男性,60岁,全口义齿修复2d后复诊,主诉义齿松,易脱落。检查义齿基托与黏膜之间的接触关系时应了解。若全口义齿蜡型试戴时固位力差,下列哪一项与基托蜡型无关() 全口义齿磨牙后垫蜡基托厚度是() 关于可摘局部义齿基托蜡型的制作要求,下列哪项不正确 关于可摘局部义齿基托蜡型的制作要求,下列哪项不正确 ( ) 患者女,下颌牙列缺失,缺失,87621|1456制作下颌半口义齿基托蜡型时,义齿基托边缘伸展过度,造成的影响不包括()。 活动义齿基托蜡型腭侧边缘 活动义齿基托蜡型腭侧边缘 活动义齿基托蜡型唇颊侧边缘 活动义齿基托蜡型唇颊侧边缘 全口义齿基托的边缘封闭区是()。 全口义齿基托边缘不能过度伸展的区域是()。 全口义齿基托需缓冲的区域是()。 可摘局部义齿基托蜡型的边缘厚度应为 全口义齿基托在叙述正确的是()
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