单晶硅刻蚀一般采用（）做掩蔽层，以氟化氢为主要的刻蚀剂，氧气为侧壁钝化作用的媒介物。

氟化氢铵 氟化氢钾 单晶硅一般采用钢化玻璃以及防水树脂进行封装，因此其坚固耐用，使用寿命最高可达25年（） 氯气、光气、氟化氢 （）燃烧产生氟化氢 中国大学MOOC: 含硅薄膜的干法刻蚀工作气体主要是（）。 氟化氢主要产生与手工电弧焊。 单晶硅与多晶硅的根本区别是（） {高级工}单晶硅一般采用钢化玻璃以及防水树脂进行封装，因此其坚固耐用，使用寿命最高可达年（） 单晶硅太阳电池效率可达( )。 单晶硅太阳电池效率可达（）。 在用氟化氢时，应 中国大学MOOC: 当前，单晶硅的制备中85%左右都是采用（）。 吸入高浓度的氟化氢及氟化氢气体或蒸汽，可立即产生（）的刺激症状 干法刻蚀的目的是什么？例举干法刻蚀同湿法刻蚀相比具有的优点。干法刻蚀的不足之处是什么？ 干法刻蚀的目的是什么？例举干法刻蚀同湿法刻蚀相比具有的优点。干法刻蚀的不足之处是什么 滤毒层一般采用触媒剂及浸渍活性炭制造；滤烟层一般采用超细纤维材料制造。二者结合能够有效地防止（）、丙烯醛、氟化氢、氧化氮、溴化氢、二氧化硫等火场中常见毒气对人体的伤害。 晶硅栅极刻蚀最大的挑战就是对二氧化硅的高选择性。超薄的（）使得在刻蚀多晶硅电极时对它的刻蚀要尽可能的小。 大气中的氟化氢主要来自下列哪些工厂（）。 氟化氢主要产生于（）焊接过程中