前腭杆位于上腭腭皱之后，硬区之前，离开牙龈缘至少毫米，与黏膜组织密而无压力（）

铸造支架前腭杆前缘应距离余牙牙龈缘（） 铸造前腭杆前缘距离余留牙牙龈缘的距离 铸造支架前腭杆前缘应距离余牙牙龈缘 侧腭杆距牙龈缘约 侧腭杆离开龈缘（　　）。 侧腭杆应离开龈缘 侧腭杆离开龈缘应 侧腭杆应离开龈缘（）。 侧腭杆应离开龈缘 侧腭杆应离开龈缘 一患者上颌局部义齿修复，义齿戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是（） 一患者上颌局部义齿修复，义齿戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是 前腭杆位于（） 一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭粘膜2mm。处理方法是 一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理办法是 一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭粘膜2mm。处理方法是 一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭粘膜2mm。处理方法是 一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm。处理方法是 前腭杆应位于 前腭杆应位于（）