采用基轴制,用于相对运动的各种问队配合时孔的基本偏差应在（之间选择（）

基轴制过渡配合的孔，其下偏差必小于零（ ） 基轴制是基本偏差为一定的轴的公差带与不同基本偏差的孔的公差带形成各种配合的一种制度。 基轴制是指基本偏差一定的轴的公差带与不同基本偏差的孔的公差带形成各种配合的一种制度。 基本偏差为一定的孔的公差带，与不同基本偏差的轴的公差带构成各种配合的一种制度称为基轴制（） 基轴制是基本偏差为一定的轴的公差带与不同基本偏差的孔的公差带形成各种配合的一种制度（） 所说的基轴制是基本偏差为一定的轴的公差带与不同基本偏差的孔的公差形成各种配合的一种制度。 若分子中孔的基本偏差代号为“Ｈ”，表示该配合为基孔制；若分母中轴的基本偏差代号为“h”，表示该配合为基轴制。当轴与孔的基本偏差同为h（H）时，根据基孔制优先的原则（） 基轴制是基本偏差为一定的孔的公差带与不同基本偏差的轴的公差带形成各种性质配合的一种制度（） 基轴制其主要特征是轴的基本偏差一定，不同的配合由改变孔的基本偏差得到。 实际生产中，有相对运动要求的孔和轴必须采用间隙配合（） 滚动轴承的配合外圈采用基孔制，内圈采用基轴制（） 工作时有相对运动的孔和轴应选（）配合。 基轴制是基本偏差为一定的轴的公差带与（）的孔的公差带形成各种配合的一种制度。 间隙配合也称为动配合，因为它们只能用于孔、轴间有相对运动的结合中。（ ） 装配滚动轴承时，外圈与箱体孔的配合采用基孔制，内圈与轴的配合采用基轴制（） 轴承内圆和轴的配合采用基孔制，轴承外圆与轴承座孔的配合采用基轴制。 装配滚动轴承时，外圈与箱体孔的配合采用基孔制，内圈与轴的配合采用基轴制（） 滚动轴承外圈与箱体孔的配合采用基孔制，它的内圈与轴的配合采用基轴制（） 基孔制的孔（基准孔）用符号表示，其基本偏差为下偏差。基轴制的（基准轴）用符号h表示，其基本偏差为上偏差 当采用基轴制时其基本偏差是( )。