典型的DUV光刻胶曝光剂量的宽容度是多少？

在深紫外曝光中，需要使用CA光刻胶，它的优点在于（）。 胶片对（）曝光所允许的程度称为曝光宽容度 曝光宽容度与景物的亮度差和感光材料的宽容度两个因素有关（） 在CMOS工艺中，通常采用对光刻胶曝光显影来实现所设计结构的图案制备（） 最早应用在半导体光刻工艺中的光刻胶是哪种胶？ 曝光宽容度是指胶片对（）所允许的程度 光刻胶的光学稳定通过（）来完成的。 解释正性光刻和负性光刻的区别？为什么正胶是普遍使用的光刻胶？最常用的正胶是指哪些胶？ 有关光刻胶的显影下列说法错误的是（）。 光刻胶主要由（）等不同材料混合而成的。 胶片对光照度，色温等的要求称为曝光的宽容度（） 从曝光曲线上的斜率（）判断不同透照电压的厚度宽容度大小。 宽容度 利用正光刻胶曝光、显影、蚀刻的过程中，掩膜版上透光图案对应的基底部位将被蚀刻掉。 利用正光刻胶曝光、显影、蚀刻的过程中，掩膜版上透光图案对应的基底部位将被蚀刻掉（） 负性和正性光刻胶有什么区别和特点？ 解释光刻胶选择比。要求的比例是高还是低？ 在硅片制造中光刻胶的两种目的是什么？ 不同透照电压的厚度宽容度不同，这直接反映在其曝光曲线的（）不同 不同透照电压的厚度宽容度不同，这直接反映在其曝光曲线的（）不同