当轴的基本偏差代号为a~h且与基准孔配合时，所形成的配合是()

基本偏差p~zc（或P~ZC）与基准孔（或轴）配合，属于（）配合。 基本偏差为A～h的轴与基准孔构成间隙配合，其中h配合最松（） 基本偏差为A～H的孔与基准轴构成间隙配合，其中H配合最松（） 基本偏差代号为 Js 的孔不基本偏差代号为h 的轰形成( )配合 。 下列孔与基准轴配合时，有可能组成过盈配合的孔是（）。 若分子中孔的基本偏差代号为“Ｈ”，表示该配合为基孔制；若分母中轴的基本偏差代号为“h”，表示该配合为基轴制。当轴与孔的基本偏差同为h（H）时，根据基孔制优先的原则（） 基本偏差为r的轴的公差与基准孔H通常形成（） 基本偏差为r的轴的公差与基准孔H通常形成： 在装配图中，当采用基孔制时，基准孔的基本偏差为H，基本偏差（下偏差）为零，轴的基本偏差在（）之间为间隙配合。 国家标准优先采用的配合中：基本偏差a~h（或A~H）与基准孔（或轴）配合，属于（）配合。 孔与轴配合时，配合公差（） 基孔制：基本偏差为孔的公差带，与不同基本偏差的轴的公差带形成各种配合的制度（） 孔、轴公差代号由基本偏差代号与标准公差等级代号组成。 孔、轴公差代号由基本偏差代号与标准公差等级代号组成（） 基本偏差代号为J、K、M的孔与基本偏差代号为h的轴可以构成（）。 基本偏差代号为J、K、M的孔与基本偏差代号为h的轴可以构成（） 中国大学MOOC: 在基本偏差a～h的轴与基准孔H构成的配合中，其中a与H配合最松。 孔与轴的配合可采用两种基准制度，基孔制与基轴制，优先采用基孔制，其中以H为基准轴的代号，以h为基准孔的代号（） 基孔制就是基本偏差为一定的轴公差带与不同基本偏差的孔公差带形成各种配合。 基本偏差为f的轴的公差带与基准孔H的公差带形成